نیترات هیدروکسید لایه ای فاز آلفا مس با روش رسوب تهیه شد. در ادامه فرایند پوشش دهی این ماده بر روی سطح شیشه سیلیسی به روس هیدروترمال انحام شد و شیشه با پوشش ماده لایه ای به دست آمد. عملیات حرارتی این پوشش در دمای 400 درجه و تبدیل ان به شیشه با پوشش اکسید مس صورت گرفت. در نهایت احیای محصول اکسیدی به روش شیشمایی تر و با استفاد از محلول DMF بعنوان عامل احیا کننده ضعیف جهت جلوگیری از رشد ذرات انجام شد. چهت بررسی خواص پیش ماده لایه ای، شیشه با پوشش ماده لایه ای، شیشه با پوشش اکسیدی و پیشه با پوشش مس فلزی، انالیزهای UV-Vis، CA، FTIR، SEM و XRD انجام گرفت. پهنای باند نمونه ها از 1.85 تا 2.95 الکترون ولت محاسبه شد که این مقدار چهت استفاده در کاربردهای نوری مناسب می باشد.
