چکیده دستیابی به لایه نازک شفاف و رسانا که الزامات زیست محیطی و اقتصادی را برآورده سازد، یکی از نیازهای فناوریهایی نظیر سلول خورشیدی، نمایشگر تخت رسانا و ... می باشد. به این منظور، لایه نازکZnO:Al به روش سل-ژل بر روی زیرلایه شیشه ساخته شد. تاثیر عوامل مختلفی نظیر دما و مدت عملیات حرارتی، محیط بازپخت، درنگ در انجام مرحله بازپخت و تغییر غلظت آلاینده بر شفافیت و مقاومت سطحی لایه نازک مورد بررسی قرار گرفتند. نتایج نشان دادند که دستیابی به مشخصه ی مقاومت سطحی کم به آسانی مقدور نیست و مقدار آن به شدت به عوامل ذکر شده در بالا وابسته می باشد. این بررسی نشان داد که بازپخت در محیط نیتروژن در مقابل هوای اتاق، به میزان زیادی باعث کاهش مقاومت سطحی لایه می شود. همچنین نشان داده شد که دما و زمان بهینه عملیات حرارتی به ترتیب 400 سلسیوس و 5 دقیقه بوده و درنگ قبل از بازپخت در نهایت تا یک روز می تواند مفید واقع شود.
