1403/10/14
حامد بحیرایی

حامد بحیرایی

مرتبه علمی: دانشیار
ارکید:
تحصیلات: دکترای تخصصی
اسکاپوس:
دانشکده: دانشکده علوم پایه
نشانی:
تلفن:

مشخصات پژوهش

عنوان
ساخت لایه های نازک ZnO و آلایش یافته با Fe بررسی ویژگی فوتوکاتالیستی آنها
نوع پژوهش
مقاله ارائه شده
کلیدواژه‌ها
لایه های نازک، اکسید روی، فوتوکاتالیست، گاف انرژی
سال 1403
پژوهشگران علی غیاسوند ، حامد بحیرایی ، ابوالفضل شیرزادی

چکیده

چکیده بر روی زیر لایه ی Fe در این پژوهش با استفاده از روش لایه نشانی چرخشی، لایههای نازک اکسید روی آلاییده شده با مقادیر متفاوت 1 و 2 درصد وزنی عنصر مورد بررسی قرار گرفت. الگوی UV-Vis و FE-SEM ، XRD شیشهای تهیه شدند. ویژگیهای ساختاری، میکروساختاری و اپتیکی لایهها با استفاده از دستگاههای لایهها تشکیل فاز هگزاگونال اکسید روی را تایید کرد. تصاویر میکروسکوپ الکترونی نشان داد که حضور یونهای آهن سبب افرایش سطح نمونهها شده X پراش پرتو است. ویژگی فوتوکاتالیستی لایهها در تخریب رنگ قرمز کنگو و در حضور نور مرئی مورد بررسی قرار گرفت. نتایج نشان داد که لایه نازک اکسید روی آلایش یافته با 2 بعد از 120 دقیقه تابش نور مرئی دارای بیشترین میزان تخریب در حدود % 70 است. Fe درصد وزنی