لایه های مختلف اکسید روی و اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی با فرکانس رادیویی در دمای اتاق بر روی لایه های شیشه ای ساخته شدند. لایه ها در یک کوره الکتریکی با حضور گاز آرگون در سه دمای مختلف 400، 500 و 600 درجه سانتی بازپخت شدند. مقدار چگالی اپتیکی اکسید روی نسبت به اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم بیشتر است. مقادیر اندازه عرضی نانو ذرات برای لایه های اکسید روی با افزایش دمای بازپخت، افزایش یافتند. لایه های اکسید روی بازپخت شده در دمای 400 درجه سانتی گراد دارای کمترین مقدار اندازه عرضی نانو ذرات در حدود 59/22 نانومتر هستند. لایه های اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم و بازپخت شده در دمای 600 درجه سانتی گراد دارای بیشترین مقدار اندازه عرضی نانو ذرات در حدود 41/34 نانومتر هستند. تغییرات ارتفاع سطح روبش شده لایه ها نشان دادند که لایه اکسید روی در دمای اتاق دارای یک جهش تند 25 نانومتر می باشد. همچنین لایه اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم در دمای 600 درجه سانتی گراد دارای فراز و نشیب کمتری نسبت به بقیه دماها دارا می باشد و ارتفاع حول 6 نانومتر است. باافزایش دمای بازپخت مقادیر ابعاد فراکتالی لایه های اکسید روی کاهش می یابد.
