علیرضا سلیمانی

هدف از انجام این پروژه، تجزیه فوتوشیمیایی اسید سالیسیلیک با استفاده از پرسولفات (S2O82−) و هیدروژن پراکسید (H2O2) و همچنین مقایسه این دو فرآیند می باشد. اسید سالیسیلیک به عنوان یک ماده حد واسط در ساخت برخی داروها و مواد آرایشی مورد استفاده قرار می گیرد. این ماده در ساختار خود شامل یک حلقه بنزنی است که با ورود خود به پساب ها جز مواد آلاینده محسوب می شود. جهت تجزیه این ماده، از یک واکنشگاه مجهز به لامپ فرابنفش با توان 6 وات که در آن یک فیلم ریزشی از محلول ایجاد می گردد، استفاده شد. در این راستا بهینه سازی پارامترهای عملیاتی نظیر pH و مقدار اکسید کننده بر اساس میزان کاهش طیف جذبی در طول موج nm298 که معرف تخریب محتویات آروماتیک محلول می باشد، صورت پذیرفت. در شرایط بهینه، غلظت اسید سالیسیلیک توسط کرماتوگرافی فاز مایع با عملکرد بالا (HPLC) تعیین گردید. همچنین میزان موفقیت فرآیندهای تصفیه ای در معدنی کردن آلاینده در محلول توسط معیار TOC مورد ارزیابی قرار گرفت. تحت شرایط بهینه یعنی: 6 =pH و مقدار پرسولفات برابر mg/L1000 برای فرآیند UV/S2O82−و 4 =pH و مقدار هیدروژن پراکسید برابر mg/L 140 برای فرآیند UV/H2O2، کاهش 94% و 98% در مقدار اسید سالیسیلیک بعد از 60 دقیقه و کاهش 80% و 86% در TOC محلول بعد از 120 دقیقه برای فرآیندهای UV/S2O82− و UV/H2O2 حاصل شد. همچنین مقدار ثابت سرعت برای دو فرآیند در شرایط مذکور برای حذف اسید سالیسیلیک به تریتب برابر min−10498/0 و min−1 0664/0 بود. مقدار انرژی مصرفی و هزینه مربوطه برابر با kWh/m3 11/77 و$/m3 2/5 برای فرآیند UV/S2O82− و kWh/m383/57 و$/m3 93/3 برای فرآیند UV/H2O2 بدست آمد. در تمام موارد ذکر شده فرآیند UV/H2O2 با مقدار اکسنده، انرژی و هزینه کمتر و با سرعت بیشتر، فرآیند حذف را انجام می دهد ، ولی فرآیند UV/S2O82− به لحاظ پایداری عامل اکسنده مناسب تر است.