مشخصات پژوهش

عنوان	تأثیر آلایش نیکل بر ویژگیهای فوتوکاتالیستی لایه های نازک اکسید روی
نوع پژوهش	مقاله ارائه شده
کلیدواژه‌ها	لایهی نازک، اکسید روی، ویژگی فوتوکاتالیستی، گاف انرژی اپتیکی
چکیده	که با استفاده از روش لایه نشانی چرخشی تهیه شدهاند، بررسی شد. ویژگی های ZnO بر ویژگیهای فیزیکی و فوتوکاتالیستی لایههای نازک Ni تأثیر میزان آلایش میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی ( XRD) ساختاری، میکروساختاری، و خاصیت فوتوکاتالیستی پودرهای به دست آمده توسط دستگا ه های پراش پرتو نشان دادند که لایه بدون آلایش درای ساختار بلوری ورتزیت هگزاگونال XRD مورد بررسی قرار گرفت. الگوهای (UV-Vis) و جذب فرا بنفش- مرئی ( FE-SEM) گاف انرژی افزایش Ni دیده میشوند. بررسی طیف جذبی نمونهها نشان داد که با آلایش NiO را بدون هیچ فاز ثانویهای است ولی با آلایش نیکل قلههای ترکیب 3 میرسد. بررسی فوتوکاتالیستی لایهها درتخریب آلایندهی رنگی قرمز کنگو نشان داد که پس از 120 دقیقه تابش نور مرئی، قله جذب آلاینده / 3 به 9 / مییابد و از 3 در محلول بر اثر لایهها کاهش یافته است. بیشترین کاهش مربوط به لایه آلاییده با % 1وزنی نیکل برابر با % 48 به دست آمد
پژوهشگران	علی غیاسوند (نفر سوم)، ابوالفضل شیرزادی (نفر اول)، حامد بحیرایی (نفر دوم)