|
عنوان
|
ساخت لایه های نازک ZnO و آلایش یافته با Fe بررسی ویژگی فوتوکاتالیستی آنها
|
|
نوع پژوهش
|
مقاله ارائه شده
|
|
کلیدواژه‌ها
|
لایه های نازک، اکسید روی، فوتوکاتالیست، گاف انرژی
|
|
چکیده
|
چکیده بر روی زیر لایه ی Fe در این پژوهش با استفاده از روش لایه نشانی چرخشی، لایههای نازک اکسید روی آلاییده شده با مقادیر متفاوت 1 و 2 درصد وزنی عنصر مورد بررسی قرار گرفت. الگوی UV-Vis و FE-SEM ، XRD شیشهای تهیه شدند. ویژگیهای ساختاری، میکروساختاری و اپتیکی لایهها با استفاده از دستگاههای لایهها تشکیل فاز هگزاگونال اکسید روی را تایید کرد. تصاویر میکروسکوپ الکترونی نشان داد که حضور یونهای آهن سبب افرایش سطح نمونهها شده X پراش پرتو است. ویژگی فوتوکاتالیستی لایهها در تخریب رنگ قرمز کنگو و در حضور نور مرئی مورد بررسی قرار گرفت. نتایج نشان داد که لایه نازک اکسید روی آلایش یافته با 2 بعد از 120 دقیقه تابش نور مرئی دارای بیشترین میزان تخریب در حدود % 70 است. Fe درصد وزنی
|
|
پژوهشگران
|
ابوالفضل شیرزادی (نفر سوم)، حامد بحیرایی (نفر دوم)، علی غیاسوند (نفر اول)
|